布魯克Bruker Dimension IconIR 納米尺度紅外光譜
名稱：光譜儀
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簡介：布魯克大樣品臺Dimension IconIR系統(tǒng)將納米紅外光譜技術(shù)（AFM-IR）和掃描探針技術(shù)（SPM）集成到一個平臺，為學術(shù)界和工業(yè)界用戶提供先進的納米光譜、化學成像和物理性質(zhì)成像工具。IconIR結(jié)合了數(shù)十年的研究和技術(shù)創(chuàng)新，基于D...
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- 產(chǎn)品介紹
布魯克大樣品臺Dimension IconIR系統(tǒng)將納米紅外光譜技術(shù)（AFM-IR）和掃描探針技術(shù)（SPM）集成到一個平臺，為學術(shù)界和工業(yè)界用戶提供先進的納米光譜、化學成像和物理性質(zhì)成像工具。IconIR結(jié)合了數(shù)十年的研究和技術(shù)創(chuàng)新，基于Dimension Icon ?原子力顯微鏡的最新平臺，實現(xiàn)卓越的納米級屬性成像能力。該系統(tǒng)支持相關(guān)的顯微鏡和化學成像，具有超高空間分辨率和單層靈敏度，同時其獨特的大樣品臺結(jié)構(gòu)，提供極大的樣本靈活性，大大擴展應用領域。
卓越的納米紅外功能和性能
在單個系統(tǒng)中，IconIR提供高性能納米級紅外光譜、化學成像分辨率和單分子層靈敏度。
Dimension IconIR提供:
· 與FTIR高度一致的高性能納米紅外光譜，優(yōu)于10nm化學成像分辨率和單分子層靈敏度
· 化學成像可與PeakForce Tapping?納米機械和納米電學關(guān)聯(lián)
· 高性能AFM成像和極大的樣品靈活性，可容納大尺寸樣品*
· 廣泛適用的應用組件和AFM功能模塊
*標準系統(tǒng)支持150mm大樣品，也可提供能夠容納更大樣品的版本
完整的關(guān)聯(lián)研究顯微鏡
集成Bruker特有的PeakForce輕敲納米物性成像和納米紅外光譜技術(shù)，Dimension IconIR系統(tǒng)的大樣本平臺特別適合于電學或化學反應環(huán)境中材料和活性納米系統(tǒng)，甚至是具有強機械異質(zhì)性的復雜系統(tǒng)的關(guān)聯(lián)研究。
IconIR提供：
先進的定量屬性成像技術(shù)
用于定量納米化學，納米機械和納米電學表征的完整關(guān)聯(lián)研究方案
包埋在環(huán)氧樹脂中的碳纖維的納米化學成像（AFM-IR）
包埋在環(huán)氧樹脂中的碳纖維的納米熱物性成像（SThM）
包埋在環(huán)氧樹脂中的碳纖維的納米電學成像（PF-KPFM）
高性能納米紅外光譜
PS-LDPE共混物不同區(qū)域的高質(zhì)量共振增強納米紅外光譜，展示了高度的材料敏感性和對納米尺度材料特性的深入解析
布魯克是基于光熱AFM-IR納米紅外光譜技術(shù)的發(fā)明者，并擁有多項專利和獨特的納米紅外模式。這些模式使IconIR能夠提供與FT-IR光譜一致的高速、高性能光譜。模式的多樣性為工業(yè)和學術(shù)用戶的廣泛樣本提供測試支持。
IconIR提供：
與FT-IR一致的高性能，豐富，詳細的光譜，實現(xiàn)單分子光譜
共振增強AFM-IR，納米紅外領域的首選技術(shù)，已發(fā)表大量科學出版物
高性能輕敲模式AFM-IR光譜
超高分辨率化學成像
Icon業(yè)界領先的AFM性能和Bruker專利的輕敲AFM-IR成像共同提高了納米紅外技術(shù)的空間分辨率和樣品適用性，并將其應用擴展到光熱AFM-IR技術(shù)目前尚未解決的領域。
IconIR提供：
· 優(yōu)于10nm的空間分辨率，用于廣泛的材料類型（包括軟質(zhì)材料）的化學成像
· 分子層靈敏度用于薄膜及生物結(jié)構(gòu)成像
· 一致，可靠，高質(zhì)量的可發(fā)表數(shù)據(jù)
· 聚合物薄膜的可靠表面敏感化學測量
超高分辨率PS-b-PMMA嵌段共聚物的輕敲AFM-IR成像 樣品形貌（a）；1730cm-1的紅外成像（b）和1492cm-1的紅外成像（c）分辨突出顯示PMMA和PS的分布。（b）圖中的黃色箭頭所示結(jié)構(gòu)展示了優(yōu)于10nm的化學分辨率。紅外成像疊加圖（d）顯示組分的分布。
淺表面化學信息檢測
表面靈敏模式采集表面涂層的光譜信息（綠色曲線），共振增強模式采集體積范圍的信息，包括表面涂層和下層體材料（褐色曲線）
采用布魯克最新專利表面靈敏模式，IconIR將探測深度從500納米降低到數(shù)十納米，無需制備截面，無縫結(jié)合高空間分辨率和高表面靈敏度。
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